Rudolph MP300 薄膜厚度測(cè)試儀

是一種高性能的晶圓測(cè)試和計(jì)量設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)。以下是其詳細(xì)規(guī)格參數(shù)：

1. **類(lèi)型**：晶圓測(cè)試和計(jì)量設(shè)備。

2. **用途**：用于測(cè)量、測(cè)試和記錄半導(dǎo)體晶片的各種特性，包括非接觸式光學(xué)測(cè)距、表面地形、電氣探測(cè)和缺陷檢測(cè)。

3. **精度**：具有高精度計(jì)量能力，能夠達(dá)到0.7nm至1.5nm的測(cè)量精度。

4. **功能**：

   - 高精度計(jì)量（如Cu薄膜厚度測(cè)量）。

   - 多種軟件元素便于分析和結(jié)果處理。

   - 自動(dòng)晶片處理和探測(cè)技術(shù)以確保最佳測(cè)試結(jié)果。

   - 模塊化設(shè)計(jì)，允許用戶根據(jù)需要選擇不同的模塊。

5. **配置**：

   - 設(shè)備配置包括兩個(gè)加載端口、兩個(gè)工作站和兩個(gè)prober基礎(chǔ)。

   - 可以在單個(gè)晶片上快速運(yùn)行多個(gè)測(cè)試。

6. **適用范圍**：適用于生產(chǎn)工廠、研發(fā)實(shí)驗(yàn)室等。

此外，Rudolph MP300 還具備以下特點(diǎn)：

- 用戶友好的設(shè)置和控制界面。

- 配備大的穩(wěn)定壓板和自動(dòng)測(cè)量檢索功能。

- 使用先進(jìn)的工業(yè)傳感器、探測(cè)器和算法來(lái)保證測(cè)量的準(zhǔn)確性和可靠性。

這些特性使得 Rudolph MP300 成為一個(gè)強(qiáng)大且多功能的工具，能夠滿足半導(dǎo)體制造業(yè)中對(duì)高精度和多功能性的需求。